ستكون الأجهزة جاهزة للإنتاج في عام 2027، وهو الوقت الذي تتوقع فيه Samsung وTSMC بدء إنتاج 1.4 نانومتر باستخدام EUV.
تبلغ تكلفة آلات الطباعة النانوية الأكثر تقدمًا حاليًا عشرات الملايين من الدولارات مقارنة بمئات الملايين من آلات الأشعة فوق البنفسجية بينما تستخدم 90٪ من الطاقة.
تقول DNP إن أحدث عملياتها NIL تستخدم الزخرفة المزدوجة وتقلل من استهلاك الطاقة في عملية التعرض إلى حوالي عُشر استهلاك الغمر ArF والطباعة الحجرية EUV.
في الماضي، أثبت NIL أنه مكلف على الأقنعة التي لم تدوم إلا لحوالي 50 رقاقة، لكن DNP تقول إنها، في أحدث عملية NIL، توصلت إلى مادة جديدة للأقنعة (في الصورة).
كما كانت NIL أبطأ بكثير من EUV – حيث تقدم ما يصل إلى 100 رقاقة في الساعة مقارنة بعدة مئات من أحدث ماكينات EUV.
في تشرين الأول (أكتوبر) الماضي، أفادت التقارير أن شركة ناشئة يدعمها بيتر ثيل تدعى Substrate قامت بجمع 100 مليون دولار للاستحواذ على ASML في سوق الأدوات الحجرية باستخدام الطباعة الحجرية بالأشعة السينية. يتضمن نهج الركيزة، الذي يقال إنه قادر على معالجة 1.4 نانومتر، استخدام مسرع الجسيمات الخاص كمصدر للضوء لأداة الطباعة الحجرية بالأشعة السينية. تدعي الشركة أنها تستطيع صنع رقاقة أرخص بكثير من استخدام الأشعة فوق البنفسجية،
